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      半導(dǎo)體FAB工藝過程控溫

      冠亞恒溫有豐富的半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)品控溫經(jīng)驗,產(chǎn)品覆蓋光刻、刻蝕、薄膜沉積、拋光等多種過程控溫。

      產(chǎn)品包括:制冷加熱循環(huán)器Chiller,低溫制冷Chiller,無壓縮機換熱單元等,控溫精度高達±0.01℃

      解決方案

      SOLUTION

      半導(dǎo)體制造是一個對環(huán)境要求極高的過程,許多工藝步驟對溫度非常敏感。

      例如,在光刻工藝中,光刻機的光學(xué)系統(tǒng)需要在穩(wěn)定的溫度環(huán)境下工作,因為溫度的微小變化可能導(dǎo)致光路的偏差,進而影響光刻的精度。在化學(xué)氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)等工藝中,反應(yīng)溫度直接影響薄膜的質(zhì)量和性能。準(zhǔn)確的溫度控制能夠確保沉積的薄膜厚度均勻、成分準(zhǔn)確,從而提高芯片的性能和良率。

      Chiller制冷加熱系統(tǒng)FLTZ系列單通道/多通道Chiller
      熱電控溫 帕爾貼溫控熱電冷卻器
      高溫Chiller&換熱單元FLTZH雙通道/ETCU系列
      高精度恒溫恒濕送風(fēng)裝置
      超低溫冷泵

      單通道 Single Channel Chiller

      —控溫精度可達±0.01℃(出口溫度穩(wěn)態(tài))

      單通道系列Chiller加載情況下控溫精度高,可在-100℃~+90℃之間任意切換,具有良好的溫度跟隨性;先進的低溫制冷技術(shù),支持-100℃~ -80℃超低溫控溫。

      雙通道 Dual Channel Chiller

      —支持雙通道獨立控溫

      FLTZ系列雙通道Chillers主要用于半導(dǎo)體制程中對反應(yīng)腔室溫度的準(zhǔn)確控制,公司在系統(tǒng)中應(yīng)用多種算法(PID、前饋PID、無模型自建樹算法),顯著提升系統(tǒng)的響應(yīng)速度、控制精度和穩(wěn)定性。

      三通道 Triple Channel Chiller

      —三通道獨立控溫

      FLTZ系列三通道Chillers主要應(yīng)用與半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度準(zhǔn)確控制,系統(tǒng)支持三個通道獨立控溫,每個通道有獨立的溫度范圍、冷卻加熱能力、導(dǎo)熱介質(zhì)流量等。

      帕爾貼 Chiller

      —熱電制冷器

      對于靜電卡盤(ESC)動態(tài)的溫度控制,使得其能夠應(yīng)用于所有類型的刻蝕工藝;

      快速和準(zhǔn)確的溫度控制,能夠滿足任何嚴苛的工藝要求;

      低能耗、高效率,節(jié)省空間,同時還能夠穩(wěn)定的控制溫度。

      Chiller換熱型

      —無壓縮機換熱機組

      采用ETCU無壓縮機換熱系統(tǒng),系統(tǒng)可通用膨脹罐、冷凝器、冷卻水系統(tǒng)等,可以有效減少設(shè)備尺寸,減少操作步驟

      雙通道高溫Chiller

      —FLTZ系列

      冠亞恒溫LNEYA雙通道?溫控溫的Chiller,可以?來滿?半導(dǎo)體?溫測試需求,介質(zhì)溫度最?可達250℃,以特殊的?藝?式,保證系統(tǒng)?溫?況下的控溫精度

      精密恒溫恒濕機組

      —超精密空調(diào)

      半導(dǎo)體、液晶和太陽能電池板等設(shè)備的?產(chǎn)設(shè)施中使?的設(shè)備、?產(chǎn)流程、檢驗流程及空間,需要?度準(zhǔn)確和穩(wěn)定的空?處理。為了滿?這些需求,全區(qū)域空?處理將需要極?的相關(guān)費?和維護成本

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