半導(dǎo)體Chiller設(shè)備溫控技術(shù)在晶圓制造工藝中的應(yīng)用實(shí)踐

2025年7月25日 199

在晶圓制造過(guò)程中，半導(dǎo)體Chiller設(shè)通過(guò)制冷與加熱的動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)，為晶圓制造各環(huán)節(jié)提供穩(wěn)定的溫度環(huán)境，其核心作用是維持工藝過(guò)程中溫度的準(zhǔn)確控制，避免因溫度波動(dòng)導(dǎo)致的圖形轉(zhuǎn)移偏差、薄膜均勻性下降等問(wèn)題。

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三通道直冷機(jī)的工作原理、智能PID調(diào)節(jié)及在半導(dǎo)體、化工與新能源測(cè)試中的多溫區(qū)控制解決方案

2025年7月11日 172

直冷式制冷技術(shù)因其直接換熱的原理，在多個(gè)工業(yè)領(lǐng)域展現(xiàn)出較高的適用性。其中，三通道直冷機(jī)通過(guò)多回路控溫設(shè)計(jì)，能夠同時(shí)滿足不同溫區(qū)的制冷需求，在半導(dǎo)體制造、化工生產(chǎn)、制藥及大型服務(wù)器冷卻等行業(yè)得到應(yīng)用。

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晶圓制造領(lǐng)域控溫chiller應(yīng)用案例

2025年2月27日 237

在晶圓制造領(lǐng)域，晶圓制造領(lǐng)域控溫chiller的應(yīng)用比較重要，因?yàn)闇?zhǔn)確的溫度控制能夠確保晶圓加工過(guò)程中的質(zhì)量和產(chǎn)量。以下晶圓制造領(lǐng)域控溫chiller是一些具體的應(yīng)用案例： 案例一：光刻過(guò)程中的溫度控制 應(yīng)用描述：光刻是晶圓制造中的關(guān)鍵步驟，需...

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HLTZ系列氫氣高效換熱制冷機(jī)組

2024年11月25日 1122

適用范圍 氫氣經(jīng)過(guò)內(nèi)高壓換熱器，制冷系統(tǒng)通過(guò)制冷劑直接與氫氣換熱，實(shí)現(xiàn)高效換熱控溫；設(shè)備本體采用正壓防爆系統(tǒng)，正壓系統(tǒng)內(nèi)置有恒溫器，確保系統(tǒng)環(huán)境維持在常溫。相對(duì)于傳統(tǒng)防凍液或其他流體與氫氣換熱，本設(shè)備采用介質(zhì)為制冷系統(tǒng)制冷劑（相變熱），...

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高低溫控溫系統(tǒng)一拖二在化工換熱器中的應(yīng)用

2024年11月21日 278

在化工行業(yè)中，高低溫控溫系統(tǒng)一拖二作為一種溫度控制設(shè)備，在化工換熱器中通過(guò)準(zhǔn)確的溫度控制和穩(wěn)定的傳遞，確保了化工生產(chǎn)過(guò)程的穩(wěn)定性和效率。 一、高低溫控溫系統(tǒng)一拖二在化工換熱器中的應(yīng)用優(yōu)勢(shì) 高精度溫控能力： 高低溫控溫系統(tǒng)一拖二采用...

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【產(chǎn)品介紹】二次換熱型TCU控溫系統(tǒng)SR系列

2024年9月24日 477

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【產(chǎn)品介紹】TCU換熱控溫系統(tǒng)ZLF系列

2024年9月24日 388

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ETCU換熱控溫單元

2024年5月25日 648

ETCU換熱控溫單元冷卻?溫度范圍：+5℃?+90℃，控溫精度±0.05℃；系統(tǒng)?壓縮機(jī)，通過(guò)換熱降溫；?持?標(biāo)定制，?持PC遠(yuǎn)程控制；采?西??/霍尼?爾調(diào)節(jié)閥控制冷卻?流量；最?循環(huán)量時(shí)，控溫溫度與冷卻?溫度溫差15°C。

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Chiller 換熱型 系統(tǒng)無(wú)壓縮機(jī)

2023年10月8日 1515

冷卻能力5KW~30KW溫度范圍冷卻水溫度+5℃~90℃ ±0.3℃儲(chǔ)罐容積6L~15L尺寸480*750*390/480*750*500

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